端在线检测工位。
缺陷检测机和线宽量测机瞬间启动扫描，海量微观成像数据快速刷新在大屏之上。
当最终检测结果跳出的那一刻，团队成员呼吸同时停滞。
大屏幕上清晰显示——
实测线宽：1.02nm
套刻精度：1.18nm
边缘粗糙度：≤0.45nm
微观缺陷数：0
轰！！！
团队瞬间炸了！！！
“神呐！所有核心参数全部达到甚至超越国际商用1nm制程标准！！”
“苏总研发的国产HighNAEUV光刻机竟然成功了！！！”
“OMG！太不可思议了吧！！谁能掐我一下！我不是在做梦吧？！！”
不是……
成功了？
安若素和安无恙两位门外汉相视一眼，对于不懂的人来说，连是否成功都无法分辨。