海量数据流，整机光源系统、七组超高精度反射镜组、双工件台、精密对焦系统、光路校准模块同步启动自检。
屏幕上，光路偏差、镜面面形误差、工件台定位参数、真空洁净度、激光光斑均匀性等上百项核心指标，逐条跳转为绿色合格状态。
苏云杉继续下达指令：“载入1nm标准SRAM光刻版图，启动光源预激发，功率拉至320W稳态。”
嗡——
设备内部传出一阵极其低沉、稳定、细腻的机械共振声，没有剧烈震动，没有刺眼光亮，极致精密的工业设备，运转起来只有近乎细微的低频嗡鸣。
咚咚…咚咚…咚咚……
皇甫君心跳加速，紧盯腔体内部。
只见13.5nm极紫外高能等离子光源瞬间起弧，经过多层高精度光学镜组，多次反射、收敛、匀化，一束极窄的EUV光束，沿着超长真空光路贯穿整机，精准投射至晶圆表面。
啧啧啧……
安若素心中暗叹：好科幻的样子…这玩意儿是我老公造出来的？他怕不是个外星人吧……
“双工件台切换，载入12英寸裸晶圆，执行对位校准。”苏云杉慢条斯理道。
机械结构在真空腔体内无声滑移，国产高精度双工件台以纳米级精度平稳位移，定位误差严格控制在±0.3nm，晶圆边缘标记点与机台对位基准瞬间完成毫秒级贴合，套刻预偏差归零。
外行看热闹，内行看门道。
半导体制造研究院院长、光刻机研发中心主任以及教授等团队成员，神色越发震惊。
他们的目光死死锁定主控屏幕，无人敢出声打扰半分。
懂行的人都清楚，这一步对位校准，是1nm制程光刻最核心、最考验技术的关键环节，分毫偏差都会导致整片晶圆报废。
苏云杉紧盯实时成像数据，沉声确认：“对位合格，启动单次曝光，剂量240mJ/cm??，聚焦阈值锁定0.8nm。”
下一秒，EUV光束精准击穿光刻胶表层，在晶圆基底上完成极致精微的电路图形复刻。
整个曝光过程无声无息，无任何肉眼可见光影，却在微观尺度完成了千亿级晶体管电路的精准刻画。
单次曝光结束，机台自动完成移片、对焦、二次校准，开启多重曝光叠加工艺，完美适配1nm制程的图形拼接需求。
三分钟后，首批测试晶圆曝光工序全部完成，设备自动卸载晶圆，送入后
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