透过口罩传来：「这是我们给ASML引进的193i浸没式光刻机预留的区域。」
这话一出，陈总有点震惊了。
「从什么渠道搞来的？瓦森纳协定对这类先进半导体设备有出口限制，中芯可以不遵守？」
张汝京小心地看了看正在参观机器的李市长他们，而后又看向跟著陈学兵的辛梦真。
「这是辛总，以后也是中芯的战友，你直说吧。」陈学兵道。
张汝京这才叹了口气，语气里满是无奈与不易：「哪能不遵守？这台设备能引进来，全靠中芯的国际股东从中斡旋，还有IBM的合同，才勉强通过荷兰方面的出口审批，走的是正规商业采购渠道，不过还得等一项美国特殊许可批下来，才能启运。」
他顿了顿，又补充：「瓦森纳协定的限制不是绝对的，它更像是一种自愿出口管制」，荷兰方面会根据设备用途、采购方背景综合评估，我们当时承诺这台设备仅用于成熟制程研发，再加上外资股东背书，才侥幸获批。」
此时，陈学兵和辛梦真对了个眼神。
「美国特殊许可...不会是VEU吧。」辛梦真第一次开口，问道。
「对，你们知道？」张汝京有些惊奇。
中芯申请这项许可是最近的事情，目前还在准备材料。
此时，俩人口罩下的脸都有了笑容。
「193i..你们拿到的是XT1250i还是XT1900i？」辛梦真快速追问。
193i，不是ASML一家的专属型号名，而是行业通用技术类别称呼，是193mArF浸没式光刻机的总称。
「i」是immersion，浸没式。
浸没式是在投影镜头和晶圆之间填充高纯度去离子水，利用水折射率≈1.44，代替空气n≈1，从而提高有效数值孔径NA，提升解析度。
XT：1250i是2004ASML的初代193i，NA值0.85，是65nm节点的工艺验证和试产机，解析度、产能、套刻精度都不够45nm量产。
而XT：1900i是今年的高NA升级款，NA值约等于1.35，是45nm量产级主力机.
NA值是光刻机镜头的「眼力值」，数值越大，镜头越厉害，能刻的线就越细。
当然，还要双工件台、光源和环境稳定性的配合。
XT：1900i不仅更新了镜头，还采用了新一代双台，替换了高级照
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