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第868章 世界首富不是目标,林浩然的新追求[7 / 8]

理论概念。

还有,他大概了解到,电子束光刻虽精度高,但效率低下且无法量产,注定是技术歧路。

而DUV路径虽未成熟,却代表未来主流方向。

他知道,未来DUV中的浸没式光刻和最终的EUV光刻,才是推动摩尔定律继续向前的关键。

虽然现在谈EUV为时过早,但他可以指示未来的半导体公司先进制造装备事业部,从现在开始,就密切关注并适时介入DUV激光光源、精密光学、双工件台等核心子系统的研发。

而不是去浪费精力在那些看似“捷径”实则死胡同的技术上。

同样,在芯片设计领域,他知道精简指令集和复杂指令集的路线之争,知道未来移动设备和数据中心对低功耗、高性能处理器的巨大需求,也知道像台积电那样的纯晶圆代工模式最终会大放异彩。

这些表面方向性的先知,其价值甚至可能超过具体的技术细节。

它能让他在浩瀚如烟的技术路径和商业选择中,少走无数弯路,将宝贵的资源和时间,精准地投注在最有希望成功的赛道上。

这,就是他最大的优势之一。

英特尔与AMD这两家处理器公司虽然都已经创立十来年,可英伟达、高通、联发科这些处理器巨头都还没出现。

而光刻机这块,后世那家几乎垄断了高端光刻机市场的荷兰ASML公司,也同样还没出现。

所以,林浩然如今开始着手布局半导体领域,重点攻克芯片以及光刻机这两大核心,时机上虽然比英特尔、德州仪器等老牌巨头晚了许多。

但相比未来的英伟达、高通、ASML等,却可以说是赶在了它们崛起的前夜,甚至更早!

这是一个历史性的窗口期。

英特尔虽然已经崛起,但远未达到后世那种近乎垄断的地位,个人电脑市场也刚刚起步,格局未定。

AMD还在苦苦追赶。

日本企业在存储领域风光无限,但在逻辑芯片的CPU/GPU设计上并未形成绝对优势。

至于光刻机,目前还是日本尼康和佳能与美国GCA等公司争雄的时代,技术路线尚未完全收敛,后来一统天下的ASML直至1984年才正式成立。

这正是天赐良机!

如果他能以雄厚的资本为后盾,以先知的方向性指引为罗盘,汇聚全球顶尖的华人科学家和工程师,再辅以灵活高效的商业运作和全球化布局。

那么完全有

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